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上篇　TFT-LCD技术基础1

第1章 TFT-LCD的结构及其产品应用1

1.1　液晶显示技术的发展历程1

1.2　TFT-LCD的原理与结构介绍1

1.3　主要零组件介绍2

1.3.1　玻璃2

1.3.2　彩色滤光片8

1.3.3　偏振片12

1.3.4　驱动与控制IC15

1.3.5　背光源18

1.4　TFT-LCD产品应用19

1.4.1　便携式移动产品19

1.4.2　桌面显示器20

1.4.3　电视机20

1.4.4　特殊工业、航空、医疗用途20

1.4.5　公共显示领域21

参考文献21

第2章 TFT-LCD制造工艺过程22

2.1 TFT-LCD制备工艺流程综述22

2.2　TFT阵列工艺及设备23

2.2.1　有源矩阵显示器件简介23

2.2.2　a-Si∶H TFT器件结构及工艺流程简介25

2.2.3　TFT阵列工艺及设备31

2.3　成盒工艺70

2.3.1 LC CELL的结构及CELL工艺流程综述70

2.3.2　主要成盒工艺介绍71

2.4　模块工艺流程79

2.4.1　模块的结构及工艺流程综述79

2.4.2　偏振片贴覆工程80

2.4.3　ACF贴覆工艺81

2.4.4　TCP和PCB连接工艺81

2.4.5　TFT-LCD模块引线连接技术83

参考文献84

第3章 TFT-LCD产品性能及其测试方法86

3.1　产品性能测试基础86

3.2　分辨率88

3.3　亮度与亮度均匀性88

3.4　对比度及对比度均匀性89

3.4.1　对比度及对比度均匀性测量90

3.4.2　对比度的影响因素和提高方法90

3.5　响应时间91

3.5.1　响应时间介绍91

3.5.2　灰阶响应时间92

3.5.3 如何提高TFT-LCD的响应速度93

3.5.4　移动图像响应速度95

3.6　可视角度范围97

3.6.1　视角的测量方法98

3.6.2　宽视角技术99

3.7　色再现性104

3.7.1　定义104

3.7.2　色再现性测量方法106

3.8　功率消耗107

3.9　串扰108

3.10　闪烁109

3.11　视觉检查项目110

3.11.1　残像111

3.11.2 与显示图像信息不直接相关的视觉检查项目112

3.12　可靠性测试116

3.13　测试方法的标准化情况116

参考文献117

下篇　平板显示技术发展119

引子119

第4章　低温多晶硅技术121

4.1　p-Si TFT技术简介121

4.1.1　像素驱动用p-Si TFT器件结构及其特点122

4.1.2　周边驱动p-Si TFT结构和特点123

4.1.3 p-Si TFT-LCD123

4.2　p-Si材料及其制备方法124

4.2.1　金属诱导法制备多晶硅薄膜125

4.2.2　激光退火制备多晶硅127

4.2.3　p-Si的霍尔迁移率测量及测量原理133

4.3　p-Si TFT及其器件特性135

4.3.1 多晶硅TFT的电学特性135

4.3.2　p-Si TFT-LCD器件特性140

参考文献143

第5章 LCD背光技术发展146

5.1　LCD背光技术146

5.1.1　背光源简介146

5.1.2　背光源产业状况147

5.1.3　背光源各结构和部件介绍149

5.1.4　背光源光学设计154

5.1.5　V-Cut导光板的设计158

5.2　新型LCD背光源——LED背光源159

5.2.1　冷阴极荧光管的缺点159

5.2.2　LED简介160

5.2.3　LED特性164

5.2.4 LED驱动169

5.2.5　LED背光设计案例176

5.2.6　基于LED背光技术发展的新型液晶显示技术187

参考文献194

第6章　有机发光显示与柔性显示技术196

6.1　有机发光二极管显示技术196

6.1.1　OLED简介196

6.1.2　OLED器件197

6.1.3　OLED制备工艺199

6.1.4　OLED像素及其驱动201

6.1.5　OLED技术展望203

6.2　柔性显示技术203

6.2.1　柔性显示技术介绍203

6.2.2　电子纸显示技术204

参考文献208

附录　缩略语中英文对照表209